半導體芯片行業(yè)，特別是在晶圓制造過程中對晶圓的純度要求很高，只有需要晶圓才能被視為合格。水滴角測量儀是評價等離子體清洗效果的一種有效工具。近些年以來，我國芯片行業(yè)發(fā)展迅速，對半導水滴測試角提出了更高的要求。

根據(jù)水滴角測試的基本原理，固體表面接觸角值或水滴角值不同于左、右、前、后，因此，水滴角測量儀器的算法采用符合界面化學基本原理的3D算法（adsa-realdrop）。同時，硬件必須具有微電平控制精度的二維水平調(diào)節(jié)表和微電平控制精度的二維水平調(diào)節(jié)機構(gòu)。

2.水滴角度測量儀的應(yīng)用特性要求微液滴（盡可能在1ul內(nèi)，使用超細針）在一小范圍內(nèi)左、右、前、后由于小變化造成的清洗效果差。